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2022-628
等離子清洗機的真空度，是影響等離子表面處理效果重要的因素之一。國內品牌的清洗機常用的真空度壓力單位基本是帕(Pa)，但是不同國外品牌的清洗機就會出現托(Torr)、巴(bar)等單位，相互之間如何換算，有的時候不太容易搞得清楚。今天我們就來梳理一下常見的幾個真空壓力單位，供大家參考。1等離子清洗機的真空、真空度和壓力單位：清洗機是指真空反應腔室里面低于標準大氣壓的氣體狀態，微觀上來講就是腔體內的氣體分子密度小于大氣壓的分子密度，不同的真空狀態意味著不同的分子密度。真空度反應的...
查看更多2022-627
等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、涂覆等目的。今天小編給大家講講等離子清洗機為什么需...
查看更多2022-624
導讀：生物安全柜（Biologicalsafetycabinet，BSC）是為操作原代培養物、菌毒株以及診斷性標本等具有感染性的實驗材料時，用來保護操作者本人、實驗室環境以及實驗材料，使其避免暴露于上述操作過程中可能產生的感染性氣溶膠和濺出物而設計的。特別是防控以來各醫療機構建設了大量的核酸實驗室，都會用到生物安全柜，那么關于生物安全柜如何安全使用，您又了解多少？根據生物安全柜的氣流和隔離屏障設計可分為3個等級：Ⅰ級、Ⅱ級（A1、A2、B1、B2型）和Ⅲ級。應根據實驗樣品的生...
查看更多2022-620
隨著半導體工業的迅速發展，對晶圓片加工的要求也迅速提高。硅片需去除光刻膠，且需提升硅片材料表面的粘合劑、去除有機污染物等要求，由于其種種原因，目前硅片需去除光刻膠，一般都是采用等離子清洗方式，以解決光刻膠問題。為了了解去除光刻膠的原理，首先要弄清楚光刻膠上含有哪些雜質和污染物，然后對這些雜質和污染物進行分類。在半導體制造過程中，需要一些有機物污染物和氧化物的存在，而且由于工藝過程總是在凈化室中有人工操作，因此半導體圓片不可避免地受到各種雜質的污染。根據來源、性質等，可大致分為...
查看更多2022-616
PTFE通過等離子清洗機處理，不光能提高材料表面粘接能力，還可以實現：1、等離子清洗機低溫等離子體蝕刻：在低溫等離子體蝕刻的整個過程中，被蝕刻的物體會變成氣相。使用機械泵將多余的生成物的排出，并用新鮮氣體持續覆蓋表面，蝕刻部分不會被材料覆蓋(例如，半導體材料工業生產使用鉻作為覆蓋材料)。等離子體的方法也可以用來蝕刻塑料表面，并且化合物可以被灰化。作為塑料包裝在印刷粘合中的預備處理方法，如POM、PPS、PTFE等，蝕刻方式是非常必要的，低溫等離子清洗機可以顯著增加濕潤面積提高...
查看更多2022-613
等離子清洗機分為大氣式和真空式，大氣常壓電漿式清洗機又稱大氣等離子清洗機、真空電漿式清洗機。比如在打印、粘合前處理等，咱們可以運用大氣等離子清洗機，因為大氣等離子清洗機能夠在線鏟除。等離子清洗機是運用低溫等離子體發生非平衡電子、反響離子和自由基的能力。高能量基團在等離子體中炮擊外表，引起濺射、熱蒸騰或光降解。清洗機是運用等離子體中各種高能量物質的活化，對物體外表吸附的污垢進行*的剝離。大氣清洗機首要由等離子發生器、輸氣管、等離子噴嘴等組成。由等離子體發生器發生的高壓高頻能量在...
查看更多2022-69
近些年微電子行業的快速發展，對微電子行業的配件要求也越來越高。利用等離子體技術進行給這些小配件進行工藝制造，使微電子器件的小型化成為可能。在線路板、半導體以及太陽能等工業中，等離子清洗工藝用來解決這些材料之間的表面粘接電鍍等一系列的問題，逐漸成為*的關鍵技術。印刷線路板生產過程中，尤其是高密度互連板，需要對孔型進行粗化處理，通過金屬孔實現層間電氣導通。在鉆孔過程中，激光孔或機械孔常有殘留物粘附在孔內，應在下一道工序前除去。平時俗稱“除膠渣”，當前，去除膠渣主要有濕法處理工藝，...
查看更多2022-66
等離子清洗機中的等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質：處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態。在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面。以達到清洗目的。等離子清洗機清洗原理：1.激活...
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